[发明专利]流体轴承结构及流体轴承结构的轴承凹面作成方法有效

专利信息
申请号: 201010148184.8 申请日: 2010-03-24
公开(公告)号: CN102200169A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 羽村雅之;蛯原建三;大木武 申请(专利权)人: 发那科株式会社
主分类号: F16C17/10 分类号: F16C17/10;F16C29/02;F16C33/14;F16C33/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供轴承凹面深度均匀的流体轴承结构和流体轴承结构的轴承凹面的形成方法。在轴承基座上并将筒状部件插入贯通孔中、形成使加压流体向流体轴承面间喷出的流体喷出口。在流体喷出口的周围形成轴承凹面。轴承基座和筒状部由不同种类材料制造。在轴承基座和筒状部上通过阳极氧化处理形成薄膜。由于轴承基座和筒状部由不同种类材料制造,所以轴承基座上的保护膜的厚度与筒状部上的保护膜的厚度不同。轴承基座选择保护膜的成长速度快的材料,筒状部选择保护膜成长慢的材料。
搜索关键词: 流体 轴承 结构 凹面 作成 方法
【主权项】:
一种流体轴承结构,其特征在于,具有第一部件、和由上述第一部件旋转自如地支撑或直线移动自如地支撑的第二部件,上述第一部件和上述第二部件具有相互对置的轴承面,在该轴承面的一方设有流体喷出口,在该流体喷出口周围设有凹面,具有设置流体喷出口的轴承面的第一部件和第二部件的至少一方通过将具有轴承面的轴承基座和具有流体喷出口并固定在上述轴承基座上的凹面形成部一体化而构成,上述轴承基座和上述凹面形成部用具有不同属性的不同的铝合金作成,在上述轴承基座和上述凹面形成部上具有利用阳极氧化处理形成的被覆膜,利用上述轴承基座上的被覆膜和上述凹面形成部上的被覆膜的厚度差,在流体喷出口的周围形成凹面。
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