[发明专利]具有束流减速器的离子注入机系统无效
| 申请号： | 201010151648.0 | 申请日： | 2010-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101807507A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 胡新平;黄永章 | 申请（专利权）人： | 胡新平;黄永章 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/05 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 610000 四川省成都*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及离子束的注入领域，其公开了具有束流减速器的离子注入机系统，包括离子束系统和靶室系统，该离子束系统包括产生离子束的离子源和用以选择、成型和传输离子束到达靶室的电磁装置，该靶室系统用来对目标工件进行扫描；其特征在于：还包括减速装置，其位于所述靶室系统的上游位置并减小离子束的能量，并移除有害的上游中性分子和原子；所述减速装置包括一系列电极对；所述电极对设置有侧电极。本发明的有益效果是：本发明通过采用多电极进行减速和偏转离子束，既能去掉离子束的能量污染，又减小电极的端部效应。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减速器 离子 注入 系统 | ||
【主权项】：
一种具有束流减速器的离子注入机系统，包括离子束系统和靶室系统，该离子束系统包括产生离子束的离子源和用以选择、成型和传输离子束到达靶室的电磁装置，该靶室系统用来对目标工件进行扫描；其特征在于：还包括减速装置，其位于所述靶室系统的上游位置并减小离子束的能量，并移除有害的上游中性分子和原子；所述减速装置包括一系列电极对；所述电极对设置有侧电极。
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