[发明专利]百合抗病性植株的离体快速培养方法无效
申请号: | 201010152130.9 | 申请日: | 2010-04-21 |
公开(公告)号: | CN101810142A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 张艺萍;吴学尉;崔光芬;王祥宁;汪国鲜;吴丽芳;王继华;贾文杰 | 申请(专利权)人: | 云南省农业科学院花卉研究所 |
主分类号: | A01H4/00 | 分类号: | A01H4/00 |
代理公司: | 昆明正原专利代理有限责任公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
地址: | 650205 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供一种百合抗病性植株的离体快速培养方法。它采用百合鳞片、花丝诱导愈伤组织,并多次继代后获得疏松的胚性愈伤组织,利用镰刀菌毒素培养基多次加压筛选后,获得抗病性百合植株,缩短了百合抗病育种的周期,从而为获得大量的抗镰刀菌的百合株系提供技术支持。该方法在有效提供抗病性株系的同时,还将为百合细胞工程育种提供一条快速、有效、稳定的技术路径。 | ||
搜索关键词: | 百合 抗病性 植株 快速 培养 方法 | ||
【主权项】:
一种百合抗病性植株的离体快速培养方法,其特征在于包括下列步骤:A、将消毒灭菌处理过的花丝、鳞片在无菌环境中,接种在pH为5.8~6.0的下列诱导培养基中:MS培养基2,4-D 1.0-8.0mg/LPicloram 1.0-8.0mg/LKT 0.1-1.0mg/LABA 0.1-1.0mg/LTDZ 0.01-0.05mg/L糖 30-40g/L琼脂 6g/L并在温度为22~28℃,全黑暗条件下诱导培养至形成愈伤组织;B、将上述愈伤组织置于pH为5.8~6.0的下列继代培养基中:MS培养基Picloram 1.0-2.0mg/LKT 0.1-0.5mg/LABA 0.1-0.5mg/LTDZ 0.01-0.05mg/L糖 30-40g/L琼脂 6g/L在温度为22~28℃、全黑暗条件下进行继代培养,每20天继代一次,继代三次后得到继代愈伤组织;C、将上述继代愈伤组织接种在含有镰刀菌毒素的pH为5.8~6.0的下列选择培养基上:MS培养基Picloram 1.0-2.0mg/LTDZ 0.01-0.05mg/L水解酪蛋白 300-600mg/L酵母提取物 300-600mg/L体积浓度为60~80%的镰刀菌毒素液0.3-0.4L/L在温度为22~28℃,全黑暗条件下培养7-10天;D、将上述步骤C培养存活的愈伤组织转入下列pH为5.8-6.0的继代培养基上:MS培养基KT 0.1-0.5mg/LBA 0.8-1.2mg/LIBA 0.1-0.5mg/L在光照强度为1800-2200Lx,光照时间为10-12小时/天,培养温度为22~28℃条件下,培养至分化出百合植株。
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