[发明专利]磁控溅镀装置

摘要

本发明提供一种磁控溅镀装置，其包括壳体、靶源、承载基座及驱动装置；壳体包括外壳及固设于外壳内的内壳；靶源固设于外壳与内壳之间，且靶源与内壳将外壳内分割为溅镀空间及容置空间；靶源靠近于溅镀空间的顶部，靶源包括两块冷却基板、两个磁性组件及靶材，磁性组件位于两块冷却基板之间，靶材固设于磁性组件下方的冷却基板上；每个磁性组件包括支撑臂及多个固设于支撑臂上的磁铁；承载基座固设于溅镀空间底部；驱动装置包括线性马达，线性马达包括定子及转子，定子固设于容置空间内，磁性组件的两个支撑臂固设于转子两端。位于靶材上方的磁铁在环绕支撑臂转动的同时还可沿支撑臂延伸方向移动，从而使加载在靶材上的磁场变得均匀。

主权项

一种磁控溅镀装置，其包括一壳体、一靶源、一承载基座及一驱动装置；所述壳体包括外壳及固设于外壳内的内壳；所述靶源固设于所述外壳与内壳之间，且靶源与内壳将外壳内分割为一溅镀空间及一容置空间；所述靶源靠近于溅镀空间的顶部设置，该靶源包括两块冷却基板、两个磁性组件及一靶材，所述磁性组件位于两块冷却基板之间，所述靶材固设于磁性组件下方的冷却基板上；所述每个磁性组件包括一支撑臂及多个固设于支撑臂上的磁铁；所述承载基座固设于溅镀空间底部，且与所述靶材相对；所述驱动装置包括一线性马达，所述线性马达包括一定子及一转子，所述定子固设于容置空间内，所述磁性组件的两个支撑臂固设于转子两端。