[发明专利]产生光刻胶图案的方法无效
| 申请号： | 201010153376.8 | 申请日： | 2010-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN101872117A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 畑光宏;山本敏;藤裕介 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;王春伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种产生光刻胶图案的方法，包括步骤(A)至(D)：(A)用第一光刻胶组合物在衬底上形成第一光刻胶膜、使第一光刻胶膜曝露于辐射、然后使曝露过的第一光刻胶膜显影以获得第一光刻胶图案的步骤，第一光刻胶组合物包含树脂、产酸剂和交联剂，树脂含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差，但通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶，(B)在190-250℃烘焙所得第一光刻胶图案10-60秒的步骤，(C)用第二光刻胶组合物在其上形成有第一光刻胶图案的衬底上形成第二光刻胶膜并使第二光刻胶膜曝露于辐射的步骤，(D)使曝露过的第二光刻胶膜显影以获得第二光刻胶图案的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种产生光刻胶图案的方法，包括下列步骤(A)至(D)：(A)使用第一光刻胶组合物在衬底上形成第一光刻胶膜、使所述第一光刻胶膜曝露于辐射、然后使曝露过的所述第一光刻胶膜显影以获得第一光刻胶图案的步骤，其中所述第一光刻胶组合物包含：树脂、产酸剂和交联剂，所述树脂含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且其自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差，但是通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶，(B)在190-250℃下烘焙获得的第一光刻胶图案10-60秒的步骤，(C)使用第二光刻胶组合物在其上已经形成有所述第一光刻胶图案的所述衬底上形成第二光刻胶膜、使所述第二光刻胶膜曝露于辐射的步骤，和(D)使曝露过的所述第二光刻胶膜显影以获得第二光刻胶图案的步骤。
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