[发明专利]基于双碳纳米管微气泡发生器的喷印头及其制备方法有效
申请号: | 201010160465.5 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN101817256A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 周文利;孙伟钧;李宇鹏 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/16 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种基于双碳纳米管微气泡发生器的喷印头及其制备方法。喷印头包括碳纳米管微气泡发生器和微流体结构,微流体结构包括主通道、毛细通道、微腔室和喷嘴。碳纳米管微气泡发生器和微流体结构分别制作。采用硅表面加工和体硅加工工艺制作喷印头结构,前者主要包括光刻制作图形,磁控溅射工艺制作掩膜,湿法腐蚀掩膜等;后者主要采用湿法腐蚀和干法刻蚀相结合的方法来制作微流体结构。用紫外固化键合方法将双微气泡发生器和微流体结构接合形成完整的喷印头结构。本发明具有很高的空间分辨率、很高的频率响应和很低的功耗。它消除了次液滴问题,有效提高了喷印图形的质量。并具有良好的高密度集成的潜力,在先进制造领域具有广泛的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 基于 纳米 气泡 发生器 喷印头 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于双碳纳米管微气泡发生器的喷印头,其特征在于,该喷印头包括衬底(1)、盖板(2)、毛细通道(6)、主通道(7)和至少一个喷印单元;喷印单元由微腔室(3),第一、第二碳纳米管微气泡发生器(4、5)和喷嘴(8)组成;微腔室(3)和主通道(7)均位于衬底(1)的上部,微腔室(3)与主通道(7)之间通过毛细通道(6)连接,盖板(2)的底部上设置有第一、第二碳纳米管微气泡发生器(4、5);盖板(2)和衬底(1)封装为一体,且第一、第二碳纳米管微气泡发生器(4、5)位于微腔室的顶部,喷嘴(8)的上部与位于微腔室的底部,喷嘴(8)的下部穿透衬底(1),且喷嘴(8)的中心与第一、第二碳纳米管微气泡发生器(4、5)的间隙相对;当喷印单元的数量多于一个时,各喷印单元成阵列布置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010160465.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。