[发明专利]一种偏振无关光栅耦合器的制作方法无效

专利信息
申请号: 201010161238.4 申请日: 2010-04-30
公开(公告)号: CN101833138A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 汪毅;邵士茜 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G02B6/34 分类号: G02B6/34;G02B5/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种T型槽光栅结构的设计方法,对两种模式采取不同的耦合原理来实现输出耦合器,从而实现了采用同一结构对TE、TM模式同时高效率耦合输出。本发明实现了在1480-1580nm波长范围内TE、TM模式的耦合效率均高于50%,两种模式的耦合效率都在1550nm波长处达到了58%;而在1510-1580nm波长范围内耦合器的偏振相关损耗(PDL)小于0.05dB,在1550nm波长处仅为3.6×10-3dB,所设计的光栅耦合器实现了高耦合效率、低偏振相关损耗、宽带宽的耦合输出功能。器件结构简单、制作方便、体积小,且与标准的CMOS工艺兼容,将为偏振无关器件的设计与制造提供技术支持。
搜索关键词: 一种 偏振 无关 光栅 耦合器 制作方法
【主权项】:
一种偏振无关光栅耦合器的制作方法,包括如下步骤:(1)根据光栅耦合布拉格条件计算TM模式的周期TTM;(2)根据光栅谐振条件计算TE模式的周期TTE;(3)令TTM=TTE,求得所述偏振无关光栅耦合器的上层材料厚度,将此时的TTM或TTE设置为该偏振无关光栅耦合器的周期;(4)利用上述求得的上层材料厚度和设置的周期制作竖直Slot光栅;(5)在上述竖直slot光栅的凹槽上部刻蚀一组浅刻蚀光栅,使得上述竖直Slot光栅变为T型槽光栅,调节所述浅刻蚀光栅的刻蚀宽度与刻蚀深度,使得当其在TE模式耦合输出效率最大、TM模式耦合效率不受影响时,此时刻蚀形成的T型槽光栅即为所求的偏振无关光栅耦合器。
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