[发明专利]光刻设备、定位系统以及定位方法无效
| 申请号： | 201010161463.8 | 申请日： | 2010-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN101866115A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | E·M·J·斯密特思 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻设备、定位系统和定位方法。具体地，一种用于光刻设备的定位系统，包括：控制系统，用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，用于测量所述可移动物体的位置；致动器，用于施加力到所述可移动物体；和控制器，用于基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统，其配置成确定所述控制系统的失效，并且如果确定所述失效，禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 定位 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的定位系统，所述定位系统包括：控制系统，其配置用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，其配置成测量所述可移动物体的位置，致动器，其配置成施加力到所述可移动物体，和控制器，其配置成基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统，其配置成确定所述控制系统的失效，并且如果确定所述失效，则禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。
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