[发明专利]球栅阵列封装切片试块的制作方法有效
申请号: | 201010161815.X | 申请日: | 2010-03-31 |
公开(公告)号: | CN101846601A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 何世舒;洪家辉 | 申请(专利权)人: | 伟创力电子科技(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/32;G01N21/88 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 201801 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种制作球栅阵列封装切片试块的方法,该方法依次包括如下步骤:从PCBA板的选定位置切割BGA切片;在模具中固定BGA切片,并且填充可固化树脂;第一砂纸研磨;第二砂纸研磨;第一IPA超声波清洗;第一金刚石抛光液抛磨;第二IPA超声波清洗;以及第二金刚石抛光液抛磨,其中所述第一IPA超声波清洗和所述第二IPA超声波清洗的清洗时间均为4至6分钟。该方法能够实现在BGA切片抛磨过程中易于清除抛磨残渣和污物,而避免BGA切片表面产生划痕或凹坑,进而提高切片的金相显微镜检测质量。 | ||
搜索关键词: | 阵列 封装 切片 制作方法 | ||
【主权项】:
一种制作球栅阵列封装切片试块的方法,依次包括如下步骤:从印刷电路板组件的选定位置切割球栅阵列封装切片;在模具中固定球栅阵列封装切片,并且填充可固化树脂;在所述可固化树脂硬化后的第一砂纸研磨;在所述第一砂纸研磨后的第二砂纸研磨;第一超声波清洗;第一金刚石抛光液抛磨;第二超声波清洗;以及第二金刚石抛光液抛磨,其中所述第一超声波清洗和所述第二超声波清洗的清洗时间均为4至6分钟。
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