[发明专利]半导体存储器件无效

专利信息
申请号: 201010162083.6 申请日: 2005-05-09
公开(公告)号: CN101834198A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 松井裕一;松崎望;高浦则克;山本直树;松冈秀行;岩崎富生 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L21/82;H01L45/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 硫属化物材料与高熔点金属或硅氧化物膜的接合性差,因此具有在相变存储器的制造工序中容易剥离的问题。另外,硫属化物材料热稳定性差,因此具有在相变存储器的制造工序中容易升华的问题。在硫属化物材料层的上部和下部形成导电性或绝缘性的接合层,使剥离强度提高。另外,在硫属化物材料层的侧壁形成由氮化膜构成的保护膜来抑制升华。
搜索关键词: 半导体 存储 器件
【主权项】:
一种半导体存储器件,其特征在于,包括:半导体衬底;在上述半导体衬底的主面形成的选择晶体管;在上述选择晶体管之上设置的层间绝缘膜;插塞,贯穿上述层间绝缘膜而设置,与上述选择晶体管电连接;相变材料层,以使其一部分连接在上述插塞上的方式被设置在上述层间绝缘膜之上;在上述相变材料层之上设置的上部电极;以及导电性的接合层,将上述相变材料层的上表面与上述上部电极的下表面接合。
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