[发明专利]适合于将构件放置在衬底上的装置及其方法有效
申请号: | 201010165228.8 | 申请日: | 2010-04-14 |
公开(公告)号: | CN101868140A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | J·H·A·范德里特 | 申请(专利权)人: | 阿森姆布里昂有限公司 |
主分类号: | H05K13/04 | 分类号: | H05K13/04;H05K13/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;曹若 |
地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明提供了一种适合于将构件放置在衬底上的装置及其方法,该装置设有构件供给装置、包括吸嘴的构件拾放装置、衬底载体、用于将构件拾放装置从构件供给装置移动至衬底载体和反向移动的机构以及用于在构件拾放装置从构件供给装置移动至衬底载体和反向移动的期间确定构件拾放装置的位置的综合测量系统。该装置还设有远离综合测量系统的局部测量系统,该局部测量系统用于在衬底上的构件的期望位置的附近几乎连续地确定构件拾放装置相对于衬底的位置,该局部测量系统位于比综合测量系统更靠近衬底载体的位置。 | ||
搜索关键词: | 适合于 构件 放置 衬底 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种适合于将构件放置在衬底上的装置,所述装置设有构件供给装置、包括吸嘴的构件拾放装置、衬底载体、用于将所述构件拾放装置从所述构件供给装置移动至所述衬底载体和反向移动的机构以及用于在所述构件拾放装置从所述构件供给装置移动至所述衬底载体和反向移动的期间确定所述构件拾放装置的位置的综合测量系统,其特征在于,所述装置还设有远离所述综合测量系统的局部测量系统,该局部测量系统用于在所述衬底上的构件的期望位置的附近几乎连续地确定所述构件拾放装置相对于所述衬底的位置,所述局部测量系统位于比所述综合测量系统更靠近所述衬底载体的位置。
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