[发明专利]一种柔性紫外-可见光掩模的制备方法

摘要

本发明提拱了一种柔性紫外-可见光掩模的制备方法。该光掩模的实施方法包括：通过受限光催化氧化反应对透明柔性的聚合物薄膜或片材表面进行亲水性改性；通过溶胶-凝胶法在该表面制备纳米厚度氧化硅，得到全透明柔性有机/无机杂化膜为打印基材；再通过喷墨打印机在该基材表面直接打印，得到通过计算机设计的任意微米级表面图案。由于制备的柔性的杂化膜具有优异的透紫外-可见光和对墨水层有着良好的附着力和缩短墨水干燥时间，同时墨水层图案具有非常优异的挡紫外-可见光的效果，本发明应用于微电子机械、微分析系统、组合阵列及细胞克隆等；通过掩模与基材表面紧密接触而应用于曲面微图案化领域。

主权项

一种柔性紫外-可见光掩模的制备方法，通过受限光催化氧化反应对透明柔性的聚合物薄膜或片材表面进行亲水性改性得到表面水接触角为40±5°的亲水聚合物表面；通过溶胶-凝胶法在该表面得到无机涂层表面水接触角为110±5°，厚度为400-1000nm的全透明柔性有机/无机杂化膜为打印基材；再通过喷墨打印机在该基材表面直接打印，得到通过计算机设计的任意微米级表面图案。