[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、液晶显示用隔片或保护膜及其形成方法有效
申请号: | 201010167754.8 | 申请日: | 2010-04-22 |
公开(公告)号: | CN101872123A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 中川刚志;佐野有香;坂井孝广 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物、液晶显示用隔片或保护膜及其形成方法。即使采用狭缝涂布法,也不会在涂膜上产生微小凹凸形成的斑点,可以高速涂布,能节约组合物溶液,用于形成液晶显示元件的隔片的放射线敏感性树脂组合物及其形成方法。本发明通过放射线敏感性树脂组合物实现,该放射线敏感性树脂组合物的特征在于,包含:(A)碱可溶性树脂、(B)聚合性不饱和化合物、(C)放射线敏感性聚合引发剂、以及(D)下式(1)所示的、R1和R2是碳原子数为4或5的直链状或支链状的烷基的溶剂。R1-O-R2 (1)。 | ||
搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 液晶显示 用隔片 保护膜 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,包含:(A)100质量份碱可溶性树脂,该碱可溶性树脂是5~60质量%(a1)与40~95质量%(a2)的共聚物,其中(a1)是选自一元羧酸、二元羧酸和二元羧酸酐的化合物,(a2)是选自(甲基)丙烯酸的羟基烷基酯、(甲基)丙烯酸的二羟基烷基酯或(甲基)丙烯酸的(6-羟基己酰氧基)烷基酯、具有环氧基的不饱和化合物、(甲基)丙烯酸环烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、(甲基)丙烯酸芳烷基酯、不饱和二元羧酸二烷基酯、具有含氧5元杂环或含氧6元杂环的(甲基)丙烯酸酯、乙烯基芳香族化合物和共轭二烯化合物的至少1种化合物;(B)30~250质量份聚合性不饱和化合物;(C)1~60质量份放射线敏感性聚合引发剂;以及(D)下式(1)所示的R1和R2是碳原子数为4或5的直链状或支链状的烷基的溶剂,该溶剂相对于放射线敏感性树脂组合物中的全部溶剂的量为5质量%~90质量%;R1-O-R2 (1)。
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