[发明专利]太阳能电池无效
申请号: | 201010168797.8 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN101866967A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 汪连山;申志辉;刘胜 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王守仁 |
地址: | 430074 湖北省武汉市洪山区*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及硅基单结氮化镓铟太阳能电池,其由自下而上排列的背面电极(11)、硅衬底(1)、籽晶层(2)、缓冲层(3)、n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)、InaGa1-aN层(5)、非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)、p型掺杂的IncGa1-cN层(7)、窗口层(8)、正面电极(9)和减反射导电膜(10)组成,其中:硅衬底和InaGa1-aN层为n型掺杂结构,籽晶层和缓冲层出氧化锌材料制成,窗口层由p型重掺杂的氮化镓制成,减反射导电膜覆盖窗口层除正面电极外的区域。本发明能较有效地解决硅衬底外延氮化镓薄膜时遇到的晶格匹配与热膨胀系数匹配等问题,具有制作成本低和对太阳光的吸收率高等优点。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池,其特征是一种硅基单结氮化镓铟太阳能电池,该电池的结构为由自下而上排列的背面电极(11)、硅衬底(1)、籽晶层(2)、缓冲层(3)、n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)、InaGa1-aN层(5)、非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)、p型掺杂的IncGa1-cN层(7)、窗口层(8)、正面电极(9)和减反射导电膜(10)组成,其中:硅衬底(1)和InaGa1-aN层(5)为n型掺杂结构,籽晶层(2)和缓冲层(3)由氧化锌材料制成,窗口层(8)由p型重掺杂的氮化镓制成,减反射导电膜(10)覆盖窗口层(8)除正面电极(9)外的区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的