[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及器件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光方法及曝光装置、以及器件制造方法，通过组合由照射装置(91)进行的对可动光学元件(90)的非曝光光照射所产生的光学系统(PLL)的光学特性调整、以及通过光学特性调整装置使光学元件(90)移动所进行之光学系统(PLL)的光学特性调整，来修正起因于例如以偏离光轴的位置为中心光学元件以偏离光轴的位置为中心的温度分布的光学系统的光学特性变动。

主权项

一种曝光方法，经由液体利用第1能量束使物体曝光，其特征在于：提供反射折射系统，该反射折射系统具有彼此光学共轭的多个光瞳面与大于1的数值孔径，且将利用上述第1能量束照明的第1面的图案投影至在第2面从光轴偏离的区域，该反射折射系统包含具有折射光学元件的第1光学系统、具有反射光学元件的第2光学系统、以及具有折射光学元件的第3光学系统，在上述第1面与上述第2面之间形成上述照明的图案的中间像；为了调整上述反射折射系统的光学特性，对配置于上述第1面与在上述多个光瞳面中在光学上最接近上述第2面的光瞳面之间的光学元件，不经由上述反射折射系统的其它光学元件而照射与上述第1能量束不同波长区域的第2能量束；为了使上述物体曝光，经由上述光学特性经调整的反射折射系统与上述液体将上述第1能量束照射于上述物体。