[发明专利]一种含氧杂环和氮杂环的结构调节剂的应用

摘要

本发明公开了一种含氧杂环和氮杂环的结构调节剂的应用，即对丁二烯均聚、丁二烯/苯乙烯共聚物的微观结构的调节，所述调节剂结构：首先配制成丁二烯或丁二烯/苯乙烯环己烷或正己烷溶液，单体总浓度为8-12％wt，将调节剂加入到上述溶液中，并加入有机锂引发剂，引发剂用量是0.5～10mmol每100克单体，调节剂与引发剂的摩尔比值R0.01～4，聚合温度40℃～90℃，反应时间1.5～3h，最后根据情况加入四氯化硅进行偶联，聚合结束后用乙醇终止反应，反应终止后经沉淀、真空干燥得聚丁二烯均聚物或共聚物样品。本发明采用的不对称结构调节剂调节能力强，在很小使用量即可有效控制乙烯基结构含量，产物中1，2-结构含量最高可在80-85％之间。在其与引发剂的摩尔比值≥0.4后对温度敏感性降低，解决了工业上聚合温度波动大影响乙烯基含量的问题；副反应少、偶联效率高；所得聚合物分子量与设计值相同，分子量分布窄。

主权项

1.一种含氧杂环和氮杂环的结构调节剂对丁二烯均聚、丁二烯/苯乙烯共聚物的微观结构的调节，其中所述含氧杂环和氮杂环的不对称结构调节剂结构上同时带有一个饱和氧杂环烷基和氮杂环烷基，氧杂环的邻位碳与氮通过亚甲基桥连接，结构式如下：R₁为-(CH₂)_n-，n＝1-3。