[发明专利]气体分布喷洒模块与镀膜设备有效
申请号: | 201010172618.8 | 申请日: | 2010-05-05 |
公开(公告)号: | CN102234791A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 刘俊岑;潘彦妤;黄智勇;简荣祯;罗顺远 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 祁建国;鲍俊萍 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种气体分布喷洒模块与镀膜设备,其中的气体分布喷洒模块包括第一、第二、第三与第四扩散板。其中,第二扩散板位于第一扩散板底下、第三扩散板位于第二扩散板底下以及第四扩散板位于第三扩散板底下并与第三扩散板相隔一间距。所述第三扩散板分为面积比为1∶1至1∶5的一内部区域与一外部区域,且第三扩散板具有多个气孔分布于内部区域与外部区域,其中内部区域内与外部区域内的气孔的面积比为1∶1至1∶5。本发明的气体分布喷洒模块以及镀膜设备,能使气体充分的混合,并解决气体喷洒到基板的不均匀性。而且,本发明的气体分布喷洒模块不但易于组装,其加工制造成本也低,连带具有维修保养简单容易的效果。 | ||
搜索关键词: | 气体 分布 喷洒 模块 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种气体分布喷洒模块,其特征在于,包括:一第一扩散板;一第二扩散板,位于该第一扩散板底下;一第三扩散板,位于该第二扩散板底下;以及一第四扩散板,位于该第三扩散板底下并与该第三扩散板相隔一间距,其中:该第三扩散板分为一内部区域与一外部区域,该内部区域与该外部区域的面积比为1∶1至1∶5,且该第三扩散板具有多个气孔分布于该内部区域与该外部区域,该内部区域内与该外部区域内的该些气孔的面积比为1∶1至1∶5。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的