[发明专利]具有纳米结构插入层的GaN基LED无效

专利信息
申请号: 201010183393.6 申请日: 2010-05-19
公开(公告)号: CN101872820A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 朱继红;张书明;朱建军 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种具有纳米结构插入层的GaN基LED,其中包括:一衬底;一纳米结构模板,该纳米结构模板外延生长在衬底上,该纳米结构模板的表面为凹凸形状;一插入层,该插入层外延生长在纳米结构模板的表面上;一N型欧姆接触层,该欧姆接触层外延生长在插入层上,该欧姆接触层上面的一侧形成有一台面;一有源层,该有源层外延生长在N型欧姆接触层的台面的另一侧上;一P型层,P型层外延生长在有源层上;一透明电极层,该透明电极层制作在P型层上;一P压焊电极,该压焊电极通过光刻制作在透明电极上;一N欧姆接触电极,该欧姆接触电极22制作在N型欧姆接触层的台面上。
搜索关键词: 具有 纳米 结构 插入 gan led
【主权项】:
一种具有纳米结构插入层的GaN基LED,其中包括:一衬底;一纳米结构模板,该纳米结构模板外延生长在衬底上,该纳米结构模板的表面为凹凸形状;一插入层,该插入层外延生长在纳米结构模板的表面上;一N型欧姆接触层,该欧姆接触层外延生长在插入层上,该欧姆接触层上面的一侧形成有一台面;一有源层,该有源层外延生长在N型欧姆接触层的台面的另一侧上;一P型层,P型层外延生长在有源层上;一透明电极层,该透明电极层制作在P型层上;一P压焊电极,该压焊电极通过光刻制作在透明电极上;一N欧姆接触电极,该欧姆接触电极22制作在N型欧姆接触层的台面上。
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