[发明专利]一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法无效
| 申请号： | 201010185163.3 | 申请日： | 2010-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101838852A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 许海军;陈家华;陆宏波;李德尧;苏雷;廛宇飞 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C30B33/12 | 分类号： | C30B33/12;C23F1/12 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于半导体技术领域。一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法，其特征是将硅片置于蒸汽体积填充度为30％-85％，压强0.1MPa-2.5MPa，温度70℃-250℃高压釜内形成的蒸汽环境中蒸汽反应5分钟-190分钟；所述蒸汽由浓度介于8.00-22.00mol/l的氢氟酸和0.01-0.50mol/l的硝酸铁溶液按照氢氟酸∶硝酸铁＝25∶15摩尔比例混合组成的腐蚀液在高压釜内形成的蒸汽。本发明提高了反应效率，制备得到发光强度强、表面结构阵列化规则分布、大面积的纳米硅体系。本发明工艺简单，操作简便易行，制备条件温和，重复率达到100％；由本发明制备得到的纳米硅体系是未来制造全硅基光电子集成器件、新一代固体照明光源等光电子器件的重要材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 发光 性能 纳米 蒸汽 腐蚀 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有强发光性能的纳米硅的蒸汽腐蚀制备方法，其特征是将硅片置于蒸汽体积填充度为30％-85％，压强0.1MPa-2.5MPa，温度70℃-250℃高压釜内形成的蒸汽环境中蒸汽反应5分钟-190分钟；所述蒸汽由浓度介于8.00-22.00mol/l的氢氟酸和0.01-0.50mol/l的硝酸铁溶液按照氢氟酸∶硝酸铁摩尔比＝25∶15比例混合组成的腐蚀液在高压釜内形成的蒸汽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学，未经北京化工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010185163.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：斜坡振动式分离机
- 下一篇：一种用于柔性衬底大面积薄膜制备的真空热蒸镀设备
