[发明专利]宽带全介质多层膜反射衍射光栅及其设计方法无效
| 申请号： | 201010185309.4 | 申请日： | 2010-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN101887140A | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 汪剑鹏;晋云霞;刘娜;李淑红;范正修 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种宽带全介质多层膜反射衍射光栅及其设计方法，宽带全介质多层膜反射衍射光栅，包括基底，由高折射率材料和低折射率材料周期性交替的高反膜层和光栅层，其特征是：在所述的高反膜层和光栅层之间还有匹配层和剩余膜层，所述的匹配层的材料折射率与所述的高反膜层中的低折率材料相同，所述的光栅层和刻蚀剩余膜层的材料折射率低于所述的高折射率材料的折射率，所述的光栅层的周期、占空比、刻蚀深度、剩余膜层的厚度、匹配层的厚度和用于高反膜层制备的控制波长的取值是关联的并通过多参数优化设计来确定。本发明宽带全介质多层膜反射衍射光栅在TE偏振光入射时在反射衍射-1级方向超过100nm宽光谱带宽内衍射效率高于97.5％。 | ||
| 搜索关键词： | 宽带 介质 多层 反射 衍射 光栅 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种宽带全介质多层膜反射衍射光栅，包括基底，由高折射率材料(4)和低折射率材料(5)周期交替的高反膜层(6)和光栅层(1)，其特征是：在所述的高反膜层(6)和光栅层(1)之间还有匹配层(3)和剩余膜层(2)，所述的匹配层(3)的材料折射率与所述的高反膜层(6)中的低折率材料相同，所述的光栅层(1)和刻蚀剩余膜层(2)的材料折射率低于所述的高折射率材料(4)的折射率，所述的光栅层(1)的周期、占空比、刻蚀深度、剩余膜层(2)的厚度、匹配层的厚度和用于高反膜层(6)制备的控制波长的取值是关联的并通过多参数优化设计来确定。
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