[发明专利]金属氢渗透性能测定的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201010185642.5 申请日: 2010-05-28
公开(公告)号: CN101832966A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 杜林秀;杜竹玮;高秀华;王晓南 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: G01N27/416 分类号: G01N27/416;G01N17/02
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110004 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种金属氢渗透性能测定的装置及方法,涉及利用电化学技术对金属样品氢渗透性能测定领域,本发明装置由主装置和预处理装置组成,金属氢渗透性能的测定方法包括预处理方法和氢渗透性能测定方法,其中,预处理方法包括抛光处理、阴极化处理和单面电镀;本发明装置使用和维护成本低,自动化程度高,精密性好、灵敏度高,采用本发明装置的金属氢渗透性能测定方法操作简单,测定结果准确且稳定。
搜索关键词: 金属 渗透 性能 测定 装置 方法
【主权项】:
一种金属氢渗透性能测定的装置,其特征在于:由主装置和预处理装置组成,其中主装置的结构如下:样品检测室内部有充氢电解池、释氢电解池、恒温加热器、样品槽,样品槽内上端有导电片,充氢电解池与释氢电解池分别位于样品槽的两侧,由电解池固定螺栓与样品检测室固定,充氢电解池与释氢电解池相对的一端均有密封橡胶圈,恒温加热器位于充氢电解池与释氢电解池的下方;充氢电解池内远离样品槽的一端装有充氢铂电极,充氢电解池上端有充氢池盖,充氢池盖上有充氢池通气管和充氢池排气孔,充氢电解池底部有充氢池排液阀;释氢电解池内远离样品槽的一端装有释氢铂电极,释氢电解池上端有释氢池盖,释氢池盖上有释氢池通气管、释氢池排气孔和参比电极,释氢电解池底部有释氢池排液阀;精密恒电流源的正极连接充氢铂电极,精密恒电流源的负极通过导电片连接主装置的样品;恒电位仪的参比接线柱连接释氢电解池的参比电极,工作电极接口通过导电片连接主装置的样品,辅助电极接口连接标准电阻的一端,标准电阻的另一端连接释氢铂电极,恒电位仪的数据输出端连接计算机系统的输入端;预处理装置结构如下:抛光池内包括抛光阴极和抛光样品槽,所述抛光阴极由第一抛光阴极和第二抛光阴极组成,第一抛光阴极和第二抛光阴极位于抛光池的两侧,抛光样品槽内有导电片,抛光池底部有抛光池排液阀,可控温加热板位于抛光池的下方;阴极化池包括阴极化阳极和阴极化样品槽,所述的阴极化阳极由第一阴极化阳极和第二阴极化阳极组成,第一阴极化阳极和第二阴极化阳极位于阴极化池的两侧,样品置于阴极化样品槽内,阴极化样品槽内有导电片,阴极化池底部有阴极化池排液阀;电镀池内底部放置电镀金属阳极,电镀池顶部有法兰盘,法兰盘上装有电镀密封圈及样品固定夹片,样品置于电镀密封圈上,电镀池顶部最上端有溢流管,电镀池底部通过软管连接液面平衡管,液面平衡管固定在升降架上,升降架上有调节旋钮,电镀池底部有电镀池排液阀;恒电流源的正极连接阴极化阳极和电镀金属阳极,并通过导电片连接抛光池的样品,恒电流源的负极连接抛光阴极,并通过导电片连接阴极化池的样品、通过样品固定夹片连接电镀池的样品。
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