[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 201010188189.3 申请日: 2010-05-25
公开(公告)号: CN101898987A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 市川幸司;杉原昌子;增山达郎 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C07C381/12 分类号: C07C381/12;C07C309/17;C07C303/32;C07D307/00;G03F7/039;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柳春琦
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供:一种以式(I-CC)表示的盐,其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子等,X1表示单键等,Y1表示C1-C36脂族烃基等,A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等,Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基,B1表示单键等,B2表示能够通过酸的作用消除的基团,m1和m2各自独立地表示0至2的整数,m3表示1至3的整数,条件是m1+m2+m3=3,并且m4表示1至3的整数;和一种光致抗蚀剂组合物,其包含以式(I-CC)表示的盐以及树脂,所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元,并且不溶或难溶于碱水溶液,但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
搜索关键词: 以及 含有 光致抗蚀剂 组合
【主权项】:
1.一种以式(I-CC)表示的盐:其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基,X1表示单键或-(CH2)k-,并且-(CH2)k-中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,并且-(CH2)k-中的一个或多个氢原子可以被C1-C4脂族烃基取代,并且k表示1至17的整数,Y1表示C1-C36脂族烃基,C3-C36脂环族烃基或C6-C36芳族烃基,并且所述脂族烃基,所述脂环族烃基和所述芳族烃基可以具有一个或多个不含氟原子的取代基,并且所述脂族烃基和所述脂环族烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基,C3-C20脂环族烃基或C6-C20芳族烃基,或A1和A2彼此结合以形成C3-C20环,并且所述脂族烃基,所述脂环族烃基,所述芳族烃基和所述环中的一个或多个氢原子可以被羟基,C1-C12烷基,C1-C12烷氧基或C3-C36脂环族烃基取代,Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基,B1表示单键或C1-C6亚烷基,并且所述亚烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,B2表示能够通过酸的作用消除的基团,m1和m2各自独立地表示0至2的整数,m3表示1至3的整数,条件是m1+m2+m3=3,并且m4表示1至3的整数。
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