[发明专利]薄膜沉积装置有效
| 申请号： | 201010189581.X | 申请日： | 2010-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN101892455A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 李忠浩;李廷敏 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;薛义丹 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请公开了一种薄膜沉积装置，该薄膜沉积装置能够简单地应用于大规模地制造大尺寸的显示装置并且提高了制造良率。所述薄膜沉积装置包括：沉积源；第一喷嘴，设置在沉积源的一侧并且包括在第一方向上布置的多个第一缝隙；第二喷嘴，与第一喷嘴相对设置并且包括在第一方向上布置的多个第二缝隙；障碍墙组件，包括在第一方向上布置的多个障碍墙，从而划分第一喷嘴和第二喷嘴之间的空间；间隔控制构件和对准控制构件中的至少一个，间隔控制构件调节第二喷嘴与基底之间的间隔，对准控制构件调节第二喷嘴和基底之间的对准。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种用于在基底上形成薄膜的薄膜沉积装置，所述薄膜沉积装置包括：沉积源；第一喷嘴，设置在沉积源的一侧并且包括在第一方向上布置的多个第一缝隙；第二喷嘴，与第一喷嘴相对设置并且包括在第一方向上布置的多个第二缝隙；障碍墙组件，包括在第一方向上布置的多个障碍墙，从而划分第一喷嘴和第二喷嘴之间的空间；间隔控制构件和对准控制构件中的至少一个，间隔控制构件调节第二喷嘴与基底之间的间隔，对准控制构件调节第二喷嘴和基底之间的对准。
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