[发明专利]一种连续垂直热蒸发的金属镀膜方法无效
申请号: | 201010193192.4 | 申请日: | 2010-06-07 |
公开(公告)号: | CN101845610A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 崔铮 | 申请(专利权)人: | 崔铮 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/24;C23C14/56;C23C14/14;G02B5/30 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 陈忠辉 |
地址: | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明揭示了一种新型的连续垂直热蒸发的金属镀膜方法,通过底部热蒸发源将金属膜料蒸镀到热蒸发源上方的样品之上,其特征在于:在热蒸发源与样品输送机构之间设一狭缝型准直装置,将从热蒸发源射出的发散性金属分子过滤,形成垂直朝向样品基材的金属分子流;其中所述准直装置的狭缝深宽比小于样品基材表面浮雕结构的深宽比的一半。本发明的应用实施,只允许接近垂直方向飞行的金属分子沉积到基底材料表面,有利于减低或消除基底材料表面浮雕结构的侧壁沉积,避免浮雕结构顶部与底部的金属薄膜互连,增强形成金属线栅偏振技术所需要的双层金属线栅结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 垂直 蒸发 金属 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
一种连续垂直热蒸发的金属镀膜方法,通过底部热蒸发源将金属膜料蒸镀到热蒸发源上方的样品之上,其特征在于:在热蒸发源与样品输送机构之间设一狭缝型准直装置,将从热蒸发源射出的发散性金属分子过滤,形成垂直朝向样品基材的金属分子流;其中所述准直装置的狭缝深宽比小于样品基材表面浮雕结构的深宽比的一半。
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