[发明专利]气相沉积设备和气相沉积方法无效
| 申请号： | 201010194165.9 | 申请日： | 2010-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101906612A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 阿部淳博 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种气相沉积设备，包括：真空罐；排气部，进行真空罐中的抽真空；气相沉积源，设置在真空罐中，以气化沉积材料；以及行进路径，允许其上沉积该沉积材料的狭长基板至少在相对于该气相沉积源的区域中相对于该气相沉积源沿着凹形路径行进。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 和气 方法 | ||
【主权项】：
一种气相沉积设备，包括：真空罐；排气部，进行所述真空罐中的真空排气；气相沉积源，设置在所述真空罐中以蒸发沉积材料；以及行进路径，允许狭长基板至少在与所述气相沉积源相对的区域中沿着相对于所述气相沉积源的凹形路径行进，所述沉积材料沉积在所述狭长基板上。
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