[发明专利]用于制造液体排出头的方法有效
| 申请号： | 201010194749.6 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101920598A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 早川和宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于制造液体排出头的方法，包括：将含有金属氮化物的第一层设置于硅基板的一个面的与供给口对应的至少一部分；将第二层设置于第一层上，第二层由铝、铜和金中的任何一种及其的合金构成；通过反应离子蚀刻沿从相反面朝向该一个面的方向蚀刻硅基板的与供给口对应的部分，使得蚀刻区域到达第一层；以及去除第一层的与供给口对应的部分，然后去除第二层的与供给口对应的部分，由此形成供给口。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 液体 出头 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造液体排出头的方法，该液体排出头包括：硅基板，其具有一个面；能量产生元件，其用于产生排出液体用的能量并被设置在所述一个面侧；以及供给口，其被设置成贯通所述硅基板的所述一个面以及所述一个面的相反面，用于将液体供给到所述能量产生元件，所述方法包括：将含有金属氮化物的第一层设置于所述硅基板的所述一个面上的至少与所述供给口对应的部分；将第二层设置于所述第一层上，所述第二层由铝、铜和金中的任何一种及其合金构成；通过反应离子蚀刻沿从所述相反面朝向所述一个面的方向蚀刻所述硅基板的与所述供给口对应的部分，使得蚀刻区域到达所述第一层；以及去除所述第一层的与所述供给口对应的部分，然后去除所述第二层的与所述供给口对应的部分，由此形成所述供给口。
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