[发明专利]彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法

摘要

一种彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它属于滤光片的镀膜技术领域，它包括如下的工艺步骤：A：清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；B：将基片上架装片进行镀膜，先镀SiO2，基片加热温度为210℃～250℃，镀膜室传动速度频率为7.0Hz～13.0Hz，使用2个多晶硅靶进行镀SiO2膜，其工艺条件是：O2流量为35Sccm、Ar流量200～220Sccm、真空度3.0×10-1Pa～4.5×10-1Pa之间，总气压为0.40～0.45Pa；C：镀ITO膜：使用6个ITO靶镀ITO膜，工艺条件是：镀膜室Ar流量为200～220Sccm、镀膜室真空度4.0×10-1Pa～4.5×10-1Pa之间。本发明工艺简单，产品合格率高。

主权项

一种彩色滤光片低温镀ITO透明导电膜的生产方法，它包括如下的工艺步骤：A：先按照常规技术进行超声波清洗基片，再进行平板清洗、热烘干燥；B：将上述处理的基片上架装片进行镀膜，先镀SiO2，镀膜采用力合薄膜科技立式全自动连续磁控溅射镀膜机，基片加热温度为210℃～250℃，镀膜室传动速度频率为7.0Hz～13.0Hz，在4号室使用2个多晶硅靶进行镀SiO2膜，其工艺条件是：O2流量为35Sccm、Ar流量200～220Sccm、真空度3.0×10-1Pa～4.5×10-1Pa之间，总气压为0.40～0.45Pa；C：再镀ITO膜：使用6个ITO靶镀ITO膜，工艺条件是：镀膜室Ar流量为200～220Sccm、镀膜室真空度4.0*10-1Pa～4.5*10-1Pa之间。