[发明专利]光电转换装置及其制造方法和成像装置无效

专利信息
申请号: 201010198267.8 申请日: 2010-06-04
公开(公告)号: CN101908574A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 三井哲朗;野村公笃;滨野光正 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L31/08 分类号: H01L31/08;H01L31/028;H01L31/18;H01L27/146;H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48;H01L27/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光电转换装置及其制造方法和成像装置。一种光电转换装置,其包括:导电膜;光电转换膜;和透明导电膜,其中所述光电转换膜含有富勒烯或富勒烯衍生物和光电转换材料,所述光电转换材料具有至少满足下列条件(A)或(B)的吸收光谱:(A):λM1<λL1且λM2<λL2;(B):λM1<λL1且Δ|λM1-λL1|>Δ|λM2-λL2|,其中λL1,λL2,λM1和λM2是在400至800nm的波长范围内最大吸收强度的1/2的吸收强度处的波长,λL1和λL2各自表示当所述光电转换材料溶解在氯仿中时在氯仿溶液光谱中的波长,并且λM1和λM2各自表示在所述光电转换材料单独的薄膜吸收光谱中的波长,条件是λL1<λL2且λM1<λM2。
搜索关键词: 光电 转换 装置 及其 制造 方法 成像
【主权项】:
一种光电转换装置,其包括:导电膜;光电转换层;和透明导电膜,其中所述光电转换层含有富勒烯或富勒烯衍生物和光电转换材料,所述光电转换材料具有至少满足下列条件(A)或(B)的吸收光谱:(A):λM1<λL1且λM2<λL2(B):λM1<λL1且Δ|λM1 λL1|>Δ|λM2 λL2|其中λL1,λL2,λM1和λM2是在400至800nm的波长范围内最大吸收强度的1/2的吸收强度处的波长,λL1和λL2各自表示当所述光电转换材料溶解在氯仿中时在氯仿溶液光谱中的波长,并且λM1和λM2各自表示在所述光电转换材料单独的薄膜吸收光谱中的波长,条件是λL1<λL2且λM1<λM2。
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