[发明专利]一种适用于自下而上电镀方法制作TSV的电镀挂件无效

专利信息
申请号: 201010200009.9 申请日: 2010-06-11
公开(公告)号: CN101851775A 公开(公告)日: 2010-10-06
发明(设计)人: 曹毓涵;罗乐 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: C25D17/08 分类号: C25D17/08;C25D5/04
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 潘振甦
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种适用于自下而上电镀方法制作TSV的电镀挂件,其特征在于所述的电镀挂件包括主体结构和不锈钢块,其中,主体结构的形状类似于方型的网球拍,球拍的主体部分为四周呈圆角的正方形,中央有圆形凹陷用于放置硅片,四周有六个开孔,用于放置丁字螺栓,球拍的柄部为一个矩形,通过螺栓依次将有机玻璃板、橡胶片和硅片,固定在主体结构的主体部分;将薄铜纸铺放在硅片背面,与硅片背面的种子层电接触,通过铜丝与薄铜纸相触;铜丝通过螺栓与主体结构背面的不锈钢块电连接。本发明特点在于简单实用,可以提供良好的电接触,提高通孔金属化的效率。
搜索关键词: 一种 适用于 自下而上 电镀 方法 制作 tsv 挂件
【主权项】:
一种适用于自下而上电镀方法制作TSV的电镀挂件,包括主体结构(1)和不锈钢块(2),其特征在于:(a)主体结构(1)的形状为方型网球拍,球拍的主体部分为四周呈圆角的正方形,中央有圆形凹陷,四周有六个开孔,用于放置螺栓;球拍的柄部为一个矩形;(b)通过螺栓(81)依次将有机玻璃板(91)、橡胶片(92)和硅片(41),固定在主体结构(1)的主体部分;(c)将薄铜纸(42)铺放在硅片(41)背面,与硅片(41)背面的种子层电接触,通过铜丝(31)、(32)与薄铜纸相触;铜丝(31)、(32)通过螺栓(71)、(72)与主体结构(1)背面的不锈钢块(2)电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010200009.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top