[发明专利]涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法

摘要

本发明提供一种涂覆、显影装置和基板的背面清洁方法。该涂覆、显影装置在半导体晶片上形成抗蚀剂膜，对曝光后的晶片进行显影，例如通过利用疏水化流体对抗蚀剂膜形成前的晶片进行疏水化处理，晶片的背面的周边部形成疏水化状态。使用清洁液和刷对该晶片的背面进行清洁时，由于刷的磨损造成晶片背面的污染，会在曝光时发生不良。在此，提供一种良好地进行晶片的背面的清洁的方法。在使用旋转卡盘、清洁刷和清洁液喷嘴至少对晶片的周边部进行清洁时，将晶片的转速控制在80rpm以下。其中，旋转卡盘将曝光前的晶片保持水平，使其绕着铅直轴旋转；清洁刷一边自转一边对旋转的晶片的背面进行清洁；清洁液喷嘴在清洁时向晶片的背面供给清洁液。

主权项

一种涂覆、显影装置，其特征在于，具备：抗蚀剂处理部，用于在圆形的基板的表面涂覆抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜；周边膜除去部，除去所述基板的表面的周边部的抗蚀剂膜；疏水化处理部，向涂覆抗蚀剂液之前或通过所述除去部除去抗蚀剂膜之后的基板供给疏水化用的流体，至少对所述基板的表面的周边部进行疏水化处理；背面清洁部，对疏水化处理和抗蚀剂膜的形成完成后的基板的背面进行清洁；和显影处理部，对进行背面的清洁、并进一步进行图案形成用的曝光后的基板进行显影处理，其中，所述背面清洁部，具备：基板保持部，将基板保持水平并使其绕着铅直轴旋转；清洁刷，一边自转，一边对通过所述基板保持部旋转的基板的背面进行清洁；清洁液供给部，在利用该清洁刷清洁时，向所述基板的背面供给清洁液；和控制部，输出控制信号，使得在对所述基板的背面侧的至少周边部进行清洁时，该基板的转速在80rpm以下。