[发明专利]用单个掩模制造至少一个微元件的方法无效
| 申请号： | 201010201056.5 | 申请日： | 2010-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN101924235A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 史蒂夫·马丁;尼古拉斯·杜诺耶;萨米·奥卡希;拉菲尔·萨洛特 | 申请（专利权）人： | 原子能和代替能源委员会 |
| 主分类号： | H01M10/04 | 分类号： | H01M10/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明公开了用单个掩模制造至少一个微元件的方法。该微元件例如微电池，包括具有在基板上的至少两个叠置的层的叠层，掩模(6)在温度效应下能够膨胀。掩模(6)包括至少一个偏离中心的开口(7)。掩模在第一温度(T1)下，通过掩模(6a)的开口(7a)沉积第一层。掩模在高于第一温度(T1)的第二温度(T2)下，通过掩模(6b)的开口(7b)沉积第二层。最后，掩模在高于第二温度(T2)的第三温度(T3)下，通过掩模(6c)的开口(7c)沉积第三层。 | ||
| 搜索关键词： | 单个 制造 至少 一个 元件 方法 | ||
【主权项】：
制造至少一个微元件的方法，包括：在基板(2)上的至少一个叠层(1)，每个叠层包括至少两层，第一层以第一图案被沉积且第二层以第二图案被沉积，所述第二图案不同于所述第一图案且至少部分覆盖所述第一图案，其特征在于：通过相同的掩模(6)的相同的开口(7)连续沉积所述叠层(1)中的一个的所述不同层，所述掩模被加热到第一温度(T1)以形成所述第一图案，且被加热到不同于所述第一温度的第二温度(T2)以形成所述第二图案。
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