[发明专利]摩擦方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法有效
| 申请号： | 201010202763.6 | 申请日： | 2010-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN101923252A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 小川贤二;坂本真澄 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以同时解决由取向不良引起的亮点缺陷和由尘埃引起的亮点缺陷这两个问题的摩擦方法、装置以及光学补偿膜的制造方法。在所述摩擦方法中，随着摩擦用布材(1)卷回，使同时旋转的摩擦辊(70A、70B)卷起连续移动的织物(16)，用摩擦用布材(1)摩擦形成于织物上的取向膜形成层(19)，形成取向膜，所述摩擦方法的特征在于，摩擦用布材(1)是在由底布组织的经线(2)和纬线(3)形成的基布(5)中织入绒头纱线(4)而形成的，同时，绒布(4)摩擦时的弯曲度用摩擦前的绒头纱线(4)的全长A和可对绒头纱线(4)赋予摩擦加重的摩擦中从基布(5)面到取向膜形成层(19)面的长度B的比率(B/A)×100表示时，再将该比率设定在60～90％的范围内的状态下进行摩擦。 | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 方法 装置 取向 光学 构件 制造 | ||
【主权项】：
一种摩擦方法，其中，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线而形成的，并且，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100表示时，以将该比值设定在60～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。
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