[发明专利]半导体激光二极管、打印头和成像装置无效

专利信息
申请号: 201010202788.6 申请日: 2010-06-11
公开(公告)号: CN101924327A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 崔安植;权五大;刘载焕;金煐千;蔡光炫;金昶勋;申美香 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;浦项工科大学校产学协力团
主分类号: H01S5/125 分类号: H01S5/125;B41J2/455;G03G15/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种半导体激光二极管、打印头和成像装置。本发明提供了一种半导体激光二极管以及包括该半导体激光二极管的打印头和成像装置。该半导体激光二极管包括凹凸图案,并发射具有高斯光强度分布的光。通过将该半导体激光二极管应用于打印头和成像装置而提供了高质量的图像。
搜索关键词: 半导体 激光二极管 打印头 成像 装置
【主权项】:
一种半导体激光二极管,包括:谐振腔,包括n型分布布拉格反射器、p型分布布拉格反射器以及设置在所述n型分布布拉格反射器与所述p型分布布拉格反射器之间的有源层;和凹凸图案,具有凸部分和凹部分并包括在所述谐振腔的周边上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社;浦项工科大学校产学协力团,未经三星电子株式会社;浦项工科大学校产学协力团许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010202788.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top