[发明专利]一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料及其制备方法有效
| 申请号： | 201010203753.4 | 申请日： | 2010-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101880477A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 徐洪耀;严正权;光善仪 | 申请（专利权）人： | 东华大学 |
| 主分类号： | C09B69/10 | 分类号： | C09B69/10;C09B57/00 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人： | 黄志达;谢文凯 |
| 地址： | 201620 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其结构由至少包含一种活性基团的低聚倍半硅氧烷POSS单体与卤代方酸菁单体构成；其制备包括：在氮气气氛中，将上述POSS单体与卤代方酸菁单体加入到催化剂、缚酸剂、配体及有机溶剂的混合体系中，于130℃～140℃加成或聚合反应10～25h后，得POSS杂化方酸菁近红外吸收材料。本发明的POSS杂化方酸菁近红外吸收染料具有较强的近红外吸收性能，良好的热、光和化学稳定性，而且抗聚集，材料兼容性好，该制备方法简单易行，经济效益好，适用于工业化生产，可广泛用于非线性光学、光动力学治疗、光数据存储、激光打印、生物探针、近红外摄影及太阳能电池等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 poss 杂化方酸菁近 红外 吸收 染料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种POSS杂化方酸菁近红外吸收染料，其特征在于：该染料结构由至少包含一种活性基团的低聚倍半硅氧烷POSS单体与卤代方酸菁单体构成，其中，低聚倍半硅氧烷单体与卤代方酸菁单体组分的摩尔比为2～1∶1～4。
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