[发明专利]一种大尺寸菲林母版设计及其组合方法有效
申请号: | 201010203936.6 | 申请日: | 2010-06-21 |
公开(公告)号: | CN101846878A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 薄红志;王勇;刘敏敏;陈富贵;王鹏年 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 徐宏;吴彦峰 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种大尺寸菲林母版设计及其组合方法,属于菲林母版制作技术领域。该大尺寸菲林母版包含分割成的小尺寸菲林母版和用以对位小尺寸菲林母版的互补标记,其组合方法的特征在于,采用了遮挡紫外线膜,以其乳剂面平铺于大尺寸菲林母版的非乳剂面上,使得在随后对大尺寸菲林母版检查和修复的过程中,只需要检查没贴遮挡紫外线菲林膜的四边即可,方便了工艺的操作,大大节省了操作时间,提高了效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 尺寸 母版 设计 及其 组合 方法 | ||
【主权项】:
一种大尺寸菲林母版设计,包含曝光用间隙窗口和对位标记,其特征在于,还包含根据所述大尺寸菲林母版裁剪而成的小尺寸菲林母版和分别在各个所述小尺寸菲林母版上用以对位组合所述小尺寸菲林母版的互补标记。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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