[发明专利]一种大视场光刻投影物镜

摘要

本发明一种光刻投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次设置具有负光焦度的第一透镜组；具有正光焦度的第二透镜组；孔径光阑；具有正光焦度的第三透镜组；以及具有负光焦度的第四透镜组；所述第三透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；所述第四透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称。本发明的光刻投影光学系统提供一种大曝光视场投影物镜，能校正多种像差，并实现物像空间的双远心。本发明采用1x放大倍率设计，数值孔径0.1，且提供半视场为100mm的大视场，满足高产率光刻设备需求。

主权项

一种光刻投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，其特征在于从所述物平面开始沿光轴依次设置：具有负光焦度的第一透镜组；具有正光焦度的第二透镜组；孔径光阑；具有正光焦度的第三透镜组，；所述第三透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及具有负光焦度的第四透镜组；所述第四透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称；所述第一透镜组由两片透镜构成，第一透镜光焦度为正，第二透镜光焦度为负；所述第二透镜组由四片透镜构成，光焦度依次为正、正、正、负；所述第二透镜组包含一子透镜组，子透镜组包括第二透镜组的第一、第二和第三透镜；其中，所述光刻投影物镜满足以下关系式：‑0.014＜F2/f1＜‑0.0270.015＜f1‑2/f1＜0.0230.59＜F2n/F2＜0.741.33＜V1‑1/V1‑2＜1.531.5＜V2‑2/V2‑3＜2.31.9＜V2‑2/V2‑4＜2.5f1：第一透镜组的焦距；F2：第二透镜组的焦距；F2n：第二透镜组的子透镜组的焦距；f1‑2：第一透镜组第二透镜的焦距；V1‑1和V1‑2：第一透镜组第一透镜和第二透镜的阿贝数；V2‑2和V2‑3：第二透镜组第二透镜和第三透镜的阿贝数；V2‑2和V2‑4：第二透镜组第二透镜和第四透镜的阿贝数。