[发明专利]具有双温度区的静电吸盘的衬底支架

摘要

本发明公开了一种在衬底处理腔室中用于容纳衬底的静电吸盘，包括具有衬底容纳表面和具有多个隔开的台面的相对的背面的陶瓷圆盘。电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持衬底。位于陶瓷圆盘的外围和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和外围部分进行温度独立控制。通过具有容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座协作以允许在腔室中调整衬底的温度分布。

主权项

一种用于在处理腔室中容纳衬底的静电吸盘，所述静电吸盘包括：a)陶瓷圆盘，包括：i)衬底容纳表面，具有多个台面的突起平台，所述突起平台由凹槽图案分开；ii)多个热传送气体导管，穿过所述陶瓷圆盘并且在衬底容纳表面上所述凹槽图案的外围端口及中心端口终止，所述气体导管能够为所述衬底容纳表面的不同区域提供热传送气体；以及iii)外围壁架，具有第一台阶和第二台阶，所述第二台阶从第一台阶径向向外并且比所述第一台阶低；b)电极，嵌在所述陶瓷圆盘中以产生静电力从而保持设置在所述衬底容纳表面上的衬底。