[发明专利]合成石英玻璃衬底的微处理无效
申请号: | 201010209818.6 | 申请日: | 2010-04-16 |
公开(公告)号: | CN101863624A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 山崎裕之;竹内正树 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;B81C1/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 任宗华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在通过湿法刻蚀微处理合成石英玻璃衬底的方法中,在衬底上形成硅烷或硅氮烷的有机涂层,以及在湿法刻蚀前,在有机涂层上形成光致抗蚀剂膜。 | ||
搜索关键词: | 合成 石英玻璃 衬底 处理 | ||
【主权项】:
一种通过湿法刻蚀微处理合成石英玻璃衬底的方法,该衬底包括待刻蚀的区域和待掩模保护的区域,该方法包括以下步骤:至少在衬底的掩模保护区域形成有机涂层,以及在湿法刻蚀前,在有机涂层上形成光致抗蚀剂膜。
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