[发明专利]具有高反射与低缺陷密度的发光二极管结构有效
申请号: | 201010210537.2 | 申请日: | 2010-06-22 |
公开(公告)号: | CN102299225A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 颜良吉;李逸骏 | 申请(专利权)人: | 联胜光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有高反射与低缺陷密度的发光二极管结构,其于一蓝宝石基板上利用蚀刻、沉积等半导体制程,埋设一具有图案花纹的介电层,该介电层为两种不同折射率的材料交互叠置而成,且在该蓝宝石基板上成长包含一N型半导体层、一活化层与一P型半导体层的发光层,并在该N型半导体层与该P型半导体层上分别镀上一N型电极与一P型电极,由此通过该介电层的存在可降低磊晶成长该发光层时的缺陷密度,且该介电层可形成高反射率区域,可反射该发光层所产生的光,使得朝下射出的光再一次反射而由表面或侧边出光,以大幅提升光淬取效率。 | ||
搜索关键词: | 具有 反射 缺陷 密度 发光二极管 结构 | ||
【主权项】:
一种具有高反射与低缺陷密度的发光二极管结构,其特征在于,所述发光二极管结构包括:一蓝宝石基板(10);一具有图案花纹的介电层(20),所述介电层(20)埋设于所述蓝宝石基板(10)的表面,且所述介电层(20)为两种不同折射率的材料交互叠置而成;一发光层(30),所述发光层(30)成长于所述蓝宝石基板(10)与所述介电层(20)上。
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