[发明专利]旋转式激光出射装置在审
申请号: | 201010212835.5 | 申请日: | 2010-06-12 |
公开(公告)号: | CN101922931A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 林邦广;上园史彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社拓普康 |
主分类号: | G01C15/00 | 分类号: | G01C15/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种旋转式激光出射装置,其能够防止从设置在包围旋转轴的环状旋转体的激光出射部射出的激光的出射方向相对旋转轴发生变动。一种旋转式激光出射装置(10),其中,激光出射部(41)收容到在旋转轴(Ra)周围能够旋转地被支承的旋转体(12)中。激光出射部包括:能够射出激光的激光光源(50)、和使从此处射出的激光在平行于基准平面(Bp)的出射光轴(Al)上射出的出射光学系统。在基台(11)上设置有基准反射部(35),其构成平行于基准平面(Bp)的基准反射面(36)。出射光学系统使从激光光源射出的激光向基准反射面射出,并且使被基准反射面反射的激光向相对出射光轴(Al)倾斜的方向射出,以抵消相对旋转体的旋转轴(Ra)的倾斜。 | ||
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【主权项】:
一种旋转式激光出射装置,其包括:旋转体,其在设置于基台的旋转轴周围能够旋转地被支承;激光出射部,其用于沿与所述旋转轴正交的基准平面射出激光且被收容于所述旋转体,其特征在于,在所述基台上设置有基准反射部,该基准反射部构成平行于所述基准平面的基准反射面,所述激光出射部包括:激光光源,其能够射出所述激光;出射光学系统,其使从该激光光源射出的所述激光向平行于所述基准平面的出射方向射出,在所述旋转体相对所述旋转轴倾斜并且所述激光的出射方向相对所述基准平面倾斜的情况下,所述出射光学系统使从所述激光光源射出的所述激光向所述基准反射面射出,并且使被该基准反射面反射的所述激光向相对所述激光的出射光轴倾斜的方向射出,以抵消所述激光的所述出射方向的所述倾斜。
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