[发明专利]发光二极管芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010213947.2 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN101887938A 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 张汝京 申请(专利权)人: 张汝京
主分类号: H01L33/36 分类号: H01L33/36;H01L33/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种发光二极管芯片及其制造方法。所述发光二极管芯片包括:衬底及衬底上的发光外延叠层,所述发光外延叠层依次包括:n型界面层;n型界面层上的发光层;发光层上的p型界面层,其中,所述p型界面层与所述发光层、n型界面层的面积相同;所述p型界面层上具有p电极;所述衬底的背面具有外接电极层;所述n型界面层的侧壁通过导电部与所述外接电极层电连接。
搜索关键词: 发光二极管 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管芯片,包括:衬底及衬底上的发光外延叠层,所述发光外延叠层依次包括:n型界面层;n型界面层上的发光层;发光层上的p型界面层,其特征在于,所述p型界面层与所述发光层、n型界面层的面积相同;所述p型界面层上具有p电极;所述衬底的背面具有外接电极层;所述n型界面层的侧壁通过导电部与所述外接电极层电连接。
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