[发明专利]一种等离子体刻蚀机反应腔均匀环倾斜警报装置有效
| 申请号： | 201010216455.9 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102315085A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 傅俊 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/3065;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体刻蚀机反应腔均匀环倾斜警报装置，包括：至少两个并联的触发器，所述并联的触发器的一端连接电源，另一端连接报警器，所述报警器的另一端接地。本发明可有效避免造成较大的损失并可有效节省人力成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 反应 均匀 倾斜 警报 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀机反应腔均匀环倾斜警报装置，其特征在于，包括：至少两个并联的触发器，所述并联的触发器的一端连接电源，另一端连接报警器，所述报警器的另一端接地。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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