[发明专利]一种显影方法有效
| 申请号： | 201010218057.0 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN102298275A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 吕炜 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;徐丁峰 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种显影方法，包括将待显影处理的晶圆固定在晶圆支撑座上；在待显影处理的晶圆上实施预湿工艺；向待显影处理的晶圆喷涂显影液，使光刻胶层中被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解；对完成显影处理的晶圆进行清洗、甩干。本发明提供的显影方法，可使晶圆的光刻胶层表面始终处于湿润状态，因此，会在后续清洗步骤中更容易去除在晶圆表面形成的残留缺陷；其次，由于以不同的转速将预湿液喷涂到晶圆上，因此，可以在整个晶圆表面上形成均匀、完整的预湿液膜，从而可以在后续的清洗步骤中去除在晶圆表面上形成的残留缺陷，进而避免了由于显影工艺的不足造成的后续刻蚀或离子注入的缺陷，最终提高了产品的稳定性和良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显影 方法 | ||
【主权项】：
一种显影方法，包括：将待显影处理的晶圆固定在晶圆支撑座上；在所述待显影处理的晶圆上实施预湿工艺；向所述待显影处理的晶圆喷涂显影液，使光刻胶层中被曝光的区域与所述显影液发生化学反应而溶解；对喷涂完所述显影液显影反应完成的晶圆进行清洗、甩干。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010218057.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
