[发明专利]低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法无效
| 申请号： | 201010218263.1 | 申请日： | 2010-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102312211A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 周雄;杨孟璇;陈柏君 | 申请（专利权）人： | 周雄 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾高雄市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是有关于一种低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其包含提供一溅镀设备，该溅镀设备具有一腔室及一装设于该腔室内的低温载台，该低温载台内部具有一内层空间及一外层空间，该外层空间是供抽真空用；设置一样品基板于该溅镀设备的该低温载台上；填充一冷却剂于该低温载台的该内层空间，以使该样品基板的温度低于273K；填充一溅镀气体于该溅镀设备的该腔室内，该溅镀气体的凝结温度低于该冷却剂的凝结温度；以及进行一溅镀步骤，以在该样品基板上形成一非晶态透明氧化物薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 形成 晶态 透明 氧化物 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种低温形成非晶态透明氧化物薄膜的方法，其特征在于其包括以下步骤：提供一溅镀设备，该溅镀设备具有一腔室及一装设于该腔室内的低温载台，该低温载台内部具有一内层空间及一外层空间，该外层空间是供抽真空用；设置一样品基板于该溅镀设备的该低温载台上；填充一冷却剂于该低温载台的该内层空间，以使该样品基板的温度低于273K；填充一溅镀气体于该溅镀设备的该腔室内，该溅镀气体的凝结温度低于该冷却剂的凝结温度；以及进行一溅镀步骤，以在该样品基板上形成一非晶态透明氧化物薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于周雄，未经周雄许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010218263.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：水泥厂实时监控统计查询一体化系统
- 下一篇：便于清洁的温度计保护套管
- 同类专利
- 专利分类
