[发明专利]一种太阳能电池片的减反射膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010219117.0 申请日: 2010-06-30
公开(公告)号: CN102315283A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 赵科雄;胡宇宁;冯克光;姜俊刚;范建都;韩志强 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/18;C23C16/455;C23C16/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种太阳能电池片的减反射膜及其制备方法,减反射膜的成分主要为SiNx:H,减反射膜中距离减反射膜所依附的硅片表面为T处的SiNx:H中的X满足如下关系:X=a-1.589×10-2T+3.728×10-4T2-4.072×10-6T3+1.535×10-8T4;其中,a为减反射膜与硅片接触的底面中的氮硅比,1.00≤a≤2.0。本发明的减反射膜不仅显著提高了太阳能电池的光电转换效率,而且最大输出功率、开路电压、短路电流及填充因子等电化学性能也得到明显提高,使用寿命也明显增强。且本发明的方法可以在一个设备中一次实现,节约成本,产能高,且工艺简单易实现,具有较高的经济效益。
搜索关键词: 一种 太阳能电池 减反射膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种太阳能电池片的减反射膜,其特征在于,所述减反射膜的成分主要为SiNx:H,减反射膜中距离减反射膜所依附的硅片表面为T处的SiNx:H中的X满足如下关系:X=a‑1.589×10‑2T+3.728×10‑4T2‑4.072×10‑6T3+1.535×10‑8T4;其中,a为减反射膜与硅片接触的底面中的氮硅比,1.00≤a≤2.0。
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