[发明专利]用于磁场匀场的装置和方法无效

专利信息
申请号: 201010223949.X 申请日: 2010-03-23
公开(公告)号: CN101916640A 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 罗伯特·斯莱德 申请(专利权)人: 英国西门子公司
主分类号: H01F6/00 分类号: H01F6/00;G01R33/38;G01R33/385
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种用于提高在均匀场区(10)内的磁场的均匀性的匀场装置和方法,所述匀场装置包括:在磁场发生器(1)和均匀场区(10)之间的体积内延伸的匀场通道(6);位于每个匀场通道(6)内的至少一片匀场材料(12);用于沿着相应的匀场通道移动每个匀场件的装置(14;46);以及用于保持每个匀场件在合适的位置的保持装置(16;46)。在磁体在场下,匀场通过在匀场通道内移动匀场件进行。在匀场阶段中,没有匀场件加入或移出匀场通道。
搜索关键词: 用于 磁场 装置 方法
【主权项】:
一种圆柱形超导磁体装置包括:具有孔(5)的中空圆柱形超导磁场发生器(1);还包括匀场装置(6,12,14,16),用于改变在均匀场区(10)内的磁场的均匀性,所述匀场装置本身包括:在所述孔内轴向延伸的匀场通道(6),该匀场通道在所述磁场发生器和所述均匀场区之间的体积中,至少一个包含磁性材料的匀场件(12),该匀场件位于各匀场通道(6)内;保持装置(16;46),该保持装置用于在轴向位置保持各匀场件;装置(14;46),该装置用于当所述磁场发生器在产生磁场时,在相应的匀场通道内轴向移动各匀场件,从而在相应的匀场通道内重新定位匀场件,因此在均匀场区(10)范围内改变磁场的均匀性;其中所述保持装置(16;46)用于将各垫匀场件保持在其调整了的轴向位置。
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