[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010224595.0 | 申请日： | 2005-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN101881930A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | B·斯特里科克;H·H·M·科西;C·A·霍根达姆;J·J·S·M·梅坦斯;K·J·J·M·扎亚;M·库佩鲁斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：用于支持构图部件的支承结构，该构图部件能将图案赋予辐射光束的横截面，从而提供图案化的辐射光束；用于支持基底的基底台；用于将图案化的辐射光束投射到基底的靶部上的投影系统；用于在投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件；以及用于补偿液体供给系统构件与基底台之间的相互作用造成的干扰的液体供给系统构件补偿器，其中液体供给系统构件补偿器包括液体供给系统构件悬挂装置，所述液体供给系统构件悬挂装置能对液体供给系统构件供给力以至少部分地补偿液体供给系统构件和基底台之间的相互作用。
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