[发明专利]电光器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010227384.2 申请日: 2010-07-15
公开(公告)号: CN101958403A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: 李亨燮;刘致旭;李成姬 申请(专利权)人: 周星工程股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/52
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;钟强
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种电光器件及其制造方法。该方法包括在基板上形成下电极;形成与下电极交叉的第一绝缘膜;在形成有下电极和所述第一绝缘膜的基板上形成有机膜;在有机膜上形成顶膜;以及通过利用激光划线工艺去除顶膜的一部分形成与下电极交叉的上电极。这里,在利用激光划线工艺形成上电极时,上电极的下表面的边缘区域位于第一绝缘膜的上方。因此,能够减少形成上电极所需要的加工设备的数量和步骤,从而简化制造工艺并节省制造成本。此外,因为在上电极的边缘区域下方形成绝缘膜,所以即使上电极的边缘区域在激光划线工艺期间被损坏,也能够防止由于上电极的变形所引起的漏电流的产生以及电光器件发生故障。因此,可以提高电光器件的可靠性。
搜索关键词: 电光 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用于制造电光器件的方法,包括:在基板上形成下电极;形成与所述下电极交叉的第一绝缘膜;在形成有所述下电极和所述第一绝缘膜的基板上形成有机膜;在所述有机膜上形成顶膜;以及通过利用激光划线工艺去除所述顶膜的一部分形成与所述下电极交叉的上电极。
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