[发明专利]一种基于偏振相移显微干涉术的超精表面测量系统无效

专利信息
申请号: 201010227703.X 申请日: 2010-07-16
公开(公告)号: CN101893429A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 刘晓军;程伟林 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01B11/30
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明的一种基于偏振相移显微干涉术的测量系统,属于光学精密测量技术领域。该系统该系统包括光源(1)、准直镜(2)、线偏振器(3)、消偏振分光棱镜(4)、显微镜(5)、偏振分光棱镜(6)、参考平面镜(8)、1/4波片(9)、检偏器(10)、成像设备(11)和数据处理系统(12),结合了偏振相移技术与Michelson干涉显微术,克服了普通相移显微干涉系统中的PZT移相方法存在的一系列问题,具有结构简单、移相简单且精确、测量精度高、测量速度快等特点。
搜索关键词: 一种 基于 偏振 相移 显微 干涉 表面 测量 系统
【主权项】:
一种偏振相移显微干涉系统,用于实现超精密表面轮廓和结构的测量,该系统包括光源(1)、准直镜(2)、线偏振器(3)、消偏振分光棱镜(4)、显微镜(5)、偏振分光棱镜(6)、参考平面镜(8)、1/4波片(9)、检偏器(10)、成像设备(11)和数据处理系统(12),从光源(1)发出的单色光穿过准直镜(2)和线偏振器(3)成为线偏振准直光,被消偏振分光棱镜(4)反射进入显微镜(5),出射后被偏振分光棱镜(6)垂直分成沿X轴方向的s分量和沿Y轴方向的p分量,所述s分量入射到参考平面镜(8)后反射回来作为参考光,所述p分量透射通过偏振分光棱镜(6)后,入射到被测表面(7),记录下被测表面7的高度信息后反射回来作为测量光;所述参考光和测量光在所述该偏振分光棱镜(6)的分光平面处汇合,再一同穿过1/4波片(9)以及检偏器(10)后发生偏振相移干涉,所述成像设备(11)探测得到干涉图,输入数据处理系统(12)进行处理后即得到被测表面微观轮廓和结构。
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