[发明专利]半导体结构及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201010228386.3 申请日: 2010-07-08
公开(公告)号: CN101937918A 公开(公告)日: 2011-01-05
发明(设计)人: 梁伟成;林昶伸 申请(专利权)人: 芯巧科技股份有限公司;梁伟成
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L27/04;H01L21/8234;H01L21/822;H01L21/762
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;鲍俊萍
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构及其制作方法,该半导体结构包括有至少一第一半导体元件、至少一第二半导体元件、一基材及一隔离槽,其中第一半导体元件及第二半导体元件设置于基材上,而隔离槽则设置于基材内,并将基材区隔成一第一基材及一第二基材,使得第一半导体元件位于第一基材上,而第二半导体元件则位于第二基材上,则第一基材及第二基材将可连接不同大小的电压,并有利于缩减半导体结构的大小。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制作方法
【主权项】:
一种半导体结构,其特征在于,包括有:至少一隔离槽,设置于一基材内,并用以将该基材区隔为一第一基材及一第二基材,且该第一基材及该第二基材分别连接不同大小的电压;至少一第一半导体元件,设置于该第一基材上;及至少一第二半导体元件,设置于该第二基材上。
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